一种单晶体气相生长用保护气体补充装置
产权类型:专利技术
所属人:***有限公司
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发布日期:2023.11.15
产权描述

本发明提供一种单晶体气相生长用保护气 体补充装置,涉及单晶体气相生长领域。该单晶 体气相生长用保护气体补充装置,包括缓冲室, 所述缓冲室的前端连接并贯通有导流管,缓冲室 的后面固定安装有密封板,密封板的内部转动连 接有连接机构,密封板的中部固定安装有支撑机 构,支撑机构的底端内侧固定安装有报警机构, 支撑机构的上方两端放置有气瓶。该单晶体气相 生长用保护气体补充装置,通过设置质量相等的 气瓶能够在其中一个气瓶供气后打破重力的平 衡,从而能够实现旋转,进而在顶端能够通过触 碰块与顶块接触关闭气瓶的同时,另一端的气瓶 在底端通过触碰块与顶块接触打开气瓶,从而实 现不间断的供气,解决现有技术中切换气瓶时暂 时缺气的问题。

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